Infraestructura destacada en el cuarto limpio de LaNNaFab:

1. Alineadora de máscaras Midas MDA-400M. Sistema para fotolitografía que opera en modos de contacto fuerte, vacío y proximidad. Permite transferir patrones a obleas de 3 a 4 pulgadas y a sustratos pequeños mediante fotomáscaras de 5 x 5 pulgadas, utilizando iluminación ultravioleta de 365 nm con control computarizado de la dosis y el tiempo de exposición.
2. Escritora láser MicroWriter ML3. Sistema de litografía directa con resoluciones seleccionables de 0.6, 1, 2 y 5 micrómetros, un área máxima de escritura de 195 x 195 mm y precisión de alineación de aproximadamente ±0.5 micrómetros. Permite fabricar patrones para microestructuras y dispositivos fotónicos y electrónicos.
3. Nanoimpresora Nanonex NX-2000. Sistema de nanoimpresión para transferir patrones con resolución menor a 10 nanómetros, incluyendo nanoestructuras tridimensionales. Permite realizar procesos de nanoimpresión termoplástica, curable por calor y de impresión directa en relieve.
4. Sistema de depósito por capas atómicas Beneq TFS 200. Reactor para el crecimiento controlado de películas delgadas a escala nanométrica mediante depósito por capas atómicas (ALD) térmico y ALD asistido por plasma (PEALD). Opera con temperaturas de sustrato de hasta 500 °C y una fuente de radiofrecuencia de hasta 300 W. Entre los materiales calibrados se encuentran Al₂O₃, ZnO, TiO₂ y HfO₂ además de combinaciones de éstos.
5. Recubridor por centrifugado Midas Spin-3000TD. Equipo para la aplicación uniforme de fotorresinas y otras soluciones sobre sustratos, con velocidades de giro de hasta 7000 rpm y aceleración controlada. Cuenta con un sistema de dispensado para líquidos de proceso y secado con nitrógeno.
6. Microscopios de fuerza atómica Park Systems XE-70 y XE-Bio. Equipos de alto rendimiento para la medición y caracterización de la topografía superficial y de patrones de relieve a escalas micrométrica y nanométrica, incluidos aquellos producidos mediante procesos de fotolitografía.
7. Elipsómetro Woollam Alpha-SE. Sistema para determinar el espesor y las propiedades ópticas de películas delgadas durante los procesos de fabricación. Opera en el intervalo espectral de 380 a 900 nm y permite realizar mediciones a ángulos fijos de 65°, 70°, 75° y 90°.
8. Microscopio óptico Leica XLM3. Equipo de inspección con objetivos de 5x, 10x, 20x, 50x y 100x, iluminación LED y cámara CCD para la obtención de imágenes digitales. Se utiliza para verificar distintas etapas de los procesos de micro y nanofabricación.
9. Horno tubular Thermo Scientific. Sistema para tratamientos térmicos y oxidación de muestras, diseñado para tubos de 6 pulgadas. Cuenta con tres zonas de calentamiento controlables de manera independiente y alcanza temperaturas de hasta 1000 °C.
10. Campanas de extracción para procesos químicos. Infraestructura para el manejo seguro de ácidos, bases y solventes durante procesos de limpieza, preparación y decapado por vía húmeda. Las campanas destinadas a ácidos y bases cuentan con agua desionizada para el lavado de muestras y nitrógeno para su secado.
11. Sistema de funcionalización PicoTrack PCT 150 RRE. Equipo automatizado para el tratamiento de superficies con hexametildisilazano (HMDS, del inglés hexamethyldisilazane), empleado para mejorar la adhesión de la fotorresina. Permite trabajar con obleas de 4 y 6 pulgadas y efectuar recocidos al vacío a temperaturas de hasta 250 °C.
12. Plancha térmica AS ONE. Equipo programable desde computadora para el calentamiento de sustratos y el recocido de películas de fotorresina, utilizado principalmente para favorecer la evaporación controlada de solventes antes de etapas posteriores de fabricación.
13. Lavadora de fotomáscaras PicoTrack PCT 100 RRE. Sistema para la limpieza de fotomáscaras cuadradas de 5 o 7 pulgadas, diseñado para retirar contaminantes superficiales y residuos de fotorresina.
14. Sistemas de plasma PE-50 y PE-100. Equipos para modificación superficial y decapado por vía seca. El PE-50 permite tratamientos con plasma de argón u oxígeno con potencias de hasta 100 W; el PE-100 permite procesos de decapado con gases como CF4 y CHF3 con potencias de hasta 300 W, incluyendo el tratamiento de materiales poliméricos.
15. Sistema de depósito químico de vapor de parileno SCS Labcoter 2 (PDS 2010). Equipo de depósito al vacío para obtener recubrimientos conformales de parileno, utilizados para encapsular y proteger muestras y dispositivos frente al deterioro y la contaminación.